本書系統(tǒng)介紹了人工晶體生長的基礎(chǔ)理論和相圖技術(shù)，在此基礎(chǔ)上全面介紹了人工晶體生長主流技術(shù)如水溶液法、助熔劑法、水熱法、焰熔法、提拉法和坩堝下降法等，詳細(xì)介紹了上述人工晶體生長技術(shù)的基本原理、設(shè)備設(shè)計與構(gòu)造、生長工藝以及它們的優(yōu)缺點等。同時，作者結(jié)合自身多年科研工作成果積累，選擇性介紹了幾種重要的光電子晶體材料的生長技術(shù)。
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