本書系統(tǒng)地介紹了物理和材料研究領(lǐng)域常用的單晶生長和薄膜制備方法，以及用來表征晶體或薄膜結(jié)構(gòu)、顯微組織、形貌、成分、價態(tài)等方面的分析技術(shù)；涵蓋了X射線衍射技術(shù)、各種電子顯微技術(shù)、掃描探針技術(shù)、能譜技術(shù)、表面物理分析技術(shù)、核物理方法測試技術(shù)和光譜分析技術(shù)。并對這些分析技術(shù)的基本原理、儀器結(jié)構(gòu)和應(yīng)用等進行了系統(tǒng)的闡述。具體涉及的分析儀器包括X射線衍射儀、透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、能譜儀、波譜儀、低能電子衍射、高能電子衍射、俄歇電子能譜、X射線光電子能譜、掃描隧道顯微鏡、原子力顯微鏡、正電子湮沒技術(shù)、穆斯堡爾譜學、紅外光譜和激光拉曼光譜等內(nèi)容。
ftp://124.17.26.93/curved-toc/9787030750327-curvedToc.pdf
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