本書首先介紹了光譜學和光譜儀器的發展概況和基本原理，分析了半導體材料、器件及其應用研究工作以及相關研制和生產中對光譜測試的需求，然后論述各種光譜儀器的分類及其工作原理，分別探討基于分光光譜儀和傅里葉變換光譜儀等的光譜測量系統，包括其各部分的組成、性能參數要求和搭建實際系統應注意的問題等。在此基礎上書中還就吸收及反射光譜、發射光譜、光電光譜等的具體測量技術，結合各種測量實例，詳細介紹各種不同測量的要求和限制因素，具體包括透射、吸收、反射、光熒光、電熒光、激光、光電導、光電流、光電壓以及光電容光譜等。書中最后還介紹了Raman光譜、微區光譜以及時間分辨光譜等的測量原理及其在半導體材料和器件研究中的應用。
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