《現(xiàn)代薄膜材料與技術(shù)》由薄膜制備技術(shù)、薄膜檢測(cè)技術(shù)和典型薄膜材料及其應(yīng)用3部分構(gòu)成，系統(tǒng)介紹了現(xiàn)代薄膜技術(shù)中涉及的真空的獲得和測(cè)量方法、薄膜制備技術(shù)中重要的物理和化學(xué)方法、薄膜材料常用的結(jié)構(gòu)分析和性能測(cè)試方法，全面闡述了典型薄膜材料的制備、結(jié)構(gòu)、性能和應(yīng)用。此外，《現(xiàn)代薄膜材料與技術(shù)》還結(jié)合筆者的研究工作，設(shè)置了磁控濺射鍍膜技術(shù)和非晶碳膜的結(jié)構(gòu)和性能表征方法兩個(gè)專題內(nèi)容。
《現(xiàn)代薄膜材料與技術(shù)》可作為普通高等工科院校的材料及相關(guān)專業(yè)的薄膜材料與技術(shù)課程的教學(xué)用書(shū)，也可供從事薄膜材料生產(chǎn)和開(kāi)發(fā)的工程技術(shù)人員參考。
第1章 薄膜制備的真空技術(shù)基礎(chǔ)
1．1 真空的基本知識(shí)
1．2 真空的獲得
1．3 真空的測(cè)量
復(fù)習(xí)思考題
參考文獻(xiàn)
第2章 薄膜的物理氣相沉積
2．1 真空蒸發(fā)鍍膜
2．2 濺射鍍膜
2．3 其他物理氣相沉積技術(shù)
2．4 分子束外延鍍膜技術(shù)
專題1 磁控濺射鍍膜技術(shù)
復(fù)習(xí)思考題
參考文獻(xiàn)
第3章 薄膜制備的化學(xué)方法
3．1 薄膜的化學(xué)和電化學(xué)轉(zhuǎn)化
3．2 薄膜的化學(xué)氣相沉積
復(fù)習(xí)思考題
參考文獻(xiàn)
第4章 薄膜材料的表征與評(píng)價(jià)
4．1 薄膜厚度的測(cè)量與監(jiān)控
4．2 表面成分和組織結(jié)構(gòu)分析
4．3 物理和化學(xué)性能測(cè)試
4．4 力學(xué)性能測(cè)試
專題2 非晶碳膜的結(jié)構(gòu)和性能表征方法
復(fù)習(xí)思考題
參考文獻(xiàn)
第5章 功能薄膜材料及其應(yīng)用
5．1 光電薄膜
5．2 磁性薄膜
復(fù)習(xí)思考題
參考文獻(xiàn)
第6章 超硬薄膜材料及其應(yīng)用
6．1 金剛石膜
6．2 非晶碳膜
6．3 氮化碳（CNx）薄膜
復(fù)習(xí)思考題
參考文獻(xiàn)
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