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真空鍍膜原理與技術(shù)

真空鍍膜原理與技術(shù)

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叢 書 名:普通高等教育“十三五”規(guī)劃教材

  • 作者:方應(yīng)翠
  • 出版時間:2014/2/1
  • ISBN:9787030398987
  • 出 版 社:科學(xué)出版社
適用讀者:普通高等學(xué)校的本專科生
  • 中圖法分類:TN305.8 
  • 頁碼:213
  • 紙張:膠版紙
  • 版次:1
  • 開本:16K
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    《真空鍍膜原理與技術(shù)》闡述了真 空鍍膜的應(yīng)用,真空鍍膜過程中薄膜在基體表面生長 過 程;探討了薄膜生長的影響因素;具體地介紹了真空 鍍膜的各種方法,包 括真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍以及化學(xué)氣 相沉積的原理、特 點、裝置及應(yīng)用技術(shù)等。力求避開煩瑣的數(shù)學(xué)公式, 盡量用簡單的語言闡 述物理過程。通俗易懂、簡單易學(xué)。
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