半導(dǎo)體先進(jìn)光刻理論與技術(shù)
定 價(jià)：¥198
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本書(shū)介紹了當(dāng)前主流的光學(xué)光刻、先進(jìn)的極紫外光刻以及下一代光刻技術(shù)。主要內(nèi)容涵蓋了光刻理論、工藝、材料、設(shè)備、關(guān)鍵部件、分辨率增強(qiáng)、建模與仿真、典型物理與化學(xué)效應(yīng)等，包括光刻技術(shù)的前沿進(jìn)展，還總結(jié)了極紫外光刻的特點(diǎn)、存在問(wèn)題與發(fā)展方向。
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