主要內(nèi)容包括：光學(xué)與光電檢測(cè)系統(tǒng)基礎(chǔ)、基于光學(xué)信息量的信號(hào)檢測(cè)、光纖傳感檢測(cè)器及應(yīng)用、光度量與輻射度量的測(cè)量、光譜特性的測(cè)量、機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)、光學(xué)與光電成像系統(tǒng)綜合特性測(cè)試以及光學(xué)與光電檢測(cè)系統(tǒng)應(yīng)用實(shí)例。
本書(shū)主要介紹了電磁散射場(chǎng)、雷達(dá)截面積、SAR 與ISAR相關(guān)性、SAR 成像算法、點(diǎn)分布函數(shù)與平滑處理、散射中心重構(gòu)圖像與場(chǎng)數(shù)據(jù)算法、ISAR成像應(yīng)用，重點(diǎn)闡述了ISAR波形及其對(duì)應(yīng)的接收機(jī)、轉(zhuǎn)像差探測(cè)、多普勒偏移、運(yùn)動(dòng)補(bǔ)償，并給出了ISAR成像處理算法及其部分實(shí)例的MATLAB 代碼。
5G無(wú)線網(wǎng)絡(luò)優(yōu)化技術(shù)原理與工程實(shí)踐 系統(tǒng)地闡述了5G無(wú)線網(wǎng)絡(luò)優(yōu)化技術(shù)的理論及實(shí)踐的全過(guò)程，從無(wú)線網(wǎng)絡(luò)優(yōu)化的概念、無(wú)線網(wǎng)絡(luò)優(yōu)化工程理論知識(shí)到數(shù)據(jù)采集及優(yōu)化分析，再到專題優(yōu)化及智能優(yōu)化，整體邏輯清晰、結(jié)構(gòu)完整，同時(shí)本書(shū)也引用了大量的工程實(shí)踐案例，以達(dá)到理論結(jié)合實(shí)踐的目的。 本書(shū)旨在提升讀者解決網(wǎng)絡(luò)優(yōu)化復(fù)雜工程問(wèn)題的能力，可作為無(wú)線網(wǎng)絡(luò)優(yōu)化工程師、技術(shù)人員的工具書(shū)，也可作為高校信息通信相關(guān)專業(yè)師生的教材。
雷達(dá)電子戰(zhàn)建模與仿真技術(shù)在相關(guān)武器裝備論證、設(shè)計(jì)、研發(fā)、定型、試驗(yàn)、訓(xùn)練等階段發(fā)揮著不可替 代的作用。雷達(dá)及其對(duì)抗裝備技術(shù)的發(fā)展,以及大數(shù)據(jù)分析、數(shù)字孿生、智能建模、虛實(shí)一體等建模仿真新 途徑的出現(xiàn),給雷達(dá)電子戰(zhàn)仿真應(yīng)用注入了新的活力。本書(shū)闡述作者團(tuán)隊(duì)20多年從事雷達(dá)電子戰(zhàn)系統(tǒng)仿 真與評(píng)估研究的成果、實(shí)例以及體會(huì)。全書(shū)共10章,第1章介紹建模仿真的基本概念,第2~10章分別對(duì) 建模仿真體系架構(gòu)、雷達(dá)系統(tǒng)功能級(jí)建模、雷達(dá)系統(tǒng)信號(hào)級(jí)建模、雷達(dá)目標(biāo)與環(huán)境特性建模、雷達(dá)偵察與干 擾系統(tǒng)建模、組網(wǎng)雷
思維方式?jīng)Q定科學(xué)成就。本書(shū)運(yùn)用智能時(shí)代知識(shí)挖掘的大數(shù)據(jù)思維理念，通過(guò)系統(tǒng)地提煉和剖析電子信息技術(shù)領(lǐng)域四大技術(shù)基礎(chǔ)（半導(dǎo)體器件發(fā)明、半導(dǎo)體電路優(yōu)化設(shè)計(jì)、電信號(hào)建模與電信號(hào)處理）的基本概念、基本原理和基本方法的理論與技術(shù)內(nèi)涵以及知識(shí)內(nèi)容要點(diǎn)之間潛在的關(guān)聯(lián)性，揭示電子信息技術(shù)領(lǐng)域引發(fā)技術(shù)質(zhì)變的拐點(diǎn)知識(shí)如何從最初的理論概念最終演化成為能夠有效解決復(fù)雜工程問(wèn)題的實(shí)用技術(shù)的發(fā)展脈絡(luò)，探討如何重塑個(gè)人科研思維模式，構(gòu)想未來(lái)科技社會(huì)的圖景，期望為電子信息技術(shù)領(lǐng)域的科研人員提供理論創(chuàng)新和技術(shù)創(chuàng)新的方法論參考。
本書(shū)對(duì)全球及我國(guó)顯示產(chǎn)業(yè)與顯示技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)進(jìn)行了研究分析，分別對(duì)顯示功能材料、顯示玻璃材料、顯示配套材料、柔性顯示高分子材料四大顯示領(lǐng)域關(guān)鍵材料的制備工藝、產(chǎn)業(yè)鏈、技術(shù)難點(diǎn)、國(guó)內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀、發(fā)展趨勢(shì)、市場(chǎng)情況、國(guó)內(nèi)外競(jìng)爭(zhēng)格局及重點(diǎn)企業(yè)進(jìn)行了全面的研究分析，并深入分析了我國(guó)信息顯示關(guān)鍵材料發(fā)展短板與存在的重點(diǎn)問(wèn)題，總結(jié)提出關(guān)鍵材料發(fā)展目標(biāo)、產(chǎn)業(yè)發(fā)展路徑與技術(shù)發(fā)展路線，提出了促進(jìn)我國(guó)顯示材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展的對(duì)策建議。
本書(shū)旨在向材料及微電子集成相關(guān)專業(yè)的高年級(jí)本科生、研究生及從事材料與器件集成行業(yè)的科研人員介紹柵介質(zhì)材料制備與相關(guān)器件集成的專業(yè)技術(shù)。本書(shū)共10章，包括了集成電路的發(fā)展趨勢(shì)及后摩爾時(shí)代的器件挑戰(zhàn)，柵介質(zhì)材料的基本概念及物理知識(shí)儲(chǔ)備，柵介質(zhì)材料的基本制備技術(shù)及表征方法； 著重介紹了柵介質(zhì)材料在不同器件中的集成應(yīng)用，如高κ與金屬柵、場(chǎng)效應(yīng)晶體管器件、薄膜晶體管器件、存儲(chǔ)器件及神經(jīng)形態(tài)器件等。本書(shū)包含柵介質(zhì)材料的基本制備技術(shù)，同時(shí)突出了柵介質(zhì)材料在器件應(yīng)用中的先進(jìn)性和前沿性，反映了后摩爾時(shí)代器件集成的
本書(shū)聚焦銻基紅外探測(cè)器技術(shù)的概念與發(fā)展, 完整介紹了銻基紅外材料的特點(diǎn)、銻基及二類超晶格紅外探測(cè)器、勢(shì)壘型及級(jí)聯(lián)紅外光電探測(cè)器、紅外輻射耦合等內(nèi)容, 詳細(xì)闡述了銻基紅外探測(cè)器器件結(jié)構(gòu)與設(shè)計(jì)、銦砷銻三元合金材料和二類超晶格材料在紅外焦平面陣列的應(yīng)用前景, 進(jìn)行了銻基紅外探測(cè)器與碲鎘汞紅外探測(cè)器的性能比較。
本書(shū)從無(wú)機(jī)鈣鈦礦光電材料的結(jié)構(gòu)與基本性能出發(fā)，系統(tǒng)介紹了無(wú)機(jī)鈣鈦礦光電材料（量子點(diǎn)、薄膜和單晶）的不同制備方法與優(yōu)勢(shì)，重點(diǎn)闡述了該類材料在發(fā)光二極管、激光器、太陽(yáng)能電池、光電探測(cè)器和電子器件等方面的應(yīng)用進(jìn)展及技術(shù)瓶頸。內(nèi)容涵蓋了該領(lǐng)域理論方面的基本概念和器件工作機(jī)理的解釋，也對(duì)材料和器件的制備工藝及優(yōu)化技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)闡述。同時(shí)，本書(shū)從無(wú)機(jī)鈣鈦礦光電材料的種類、性能和應(yīng)用等方面出發(fā)，系統(tǒng)地總結(jié)和歸納了其發(fā)展歷程，為讀者展示了近十年來(lái)該領(lǐng)域的重要進(jìn)展。
本書(shū)基于Altium Designer 20編寫(xiě)而成，共8章，依次介紹了Altium Designer 20基礎(chǔ)、原理圖設(shè)計(jì)、層次原理圖設(shè)計(jì)、電路板設(shè)計(jì)及后期制作、元件庫(kù)與元件封裝制作、高速電路設(shè)計(jì)、電路仿真技術(shù)、綜合案例等。本書(shū)主要根據(jù)應(yīng)用型人才培養(yǎng)的教學(xué)特點(diǎn)，增加典型的操作實(shí)例來(lái)加強(qiáng)教學(xué)效果，同時(shí)利用實(shí)例可以進(jìn)行課堂同步演練，提高學(xué)生的動(dòng)手能力，達(dá)到學(xué)以致用、以學(xué)促用的教學(xué)目的。本書(shū)從軟件的發(fā)展歷史、軟件的安裝和軟件的初始化環(huán)境介紹軟件的操作使用，并增加了高速
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